21 Under the R.O.C. Patent Act, the right to apply for a patent cannot be the subject of . (A) Litigation (B) Assignment (C) Pledge (D) Inheritance

21 Under the R.O.C. Patent Act, the right to apply for a patent cannot be the subject of .
(A) Litigation
(B) Assignment
(C) Pledge
(D) Inheritance

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統計： A(0), B(0), C(3), D(0), E(0) #3145260

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B1 · 2025/11/07

#7043443

1. 題目解析本題問的是根據中華民國...

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5 特許要件に関する記述について、次のうち誤っているものはどれか？ (A)産業上の利用可能性とは、出願した発明が産業上で製造または使用することができることをいう (B)容易に完成できるとは、当該発明の属する技術分野において通常知識を有する者が、1 つまたは複数の引用文献に開示された先行技術をもとに、出願時の通常知識を参酌することで、創造性な労働をすることなく出願特許の発明が得られることを予期（expect）できる場合、容易に完成できると認定しなければならない (C)産業上の利用可能性は、出願特許の本質または明細書に記載された当該発明について、産業上で利用される方法によって判断し、新規性及び進歩性が出願特許の発明と先行技術を技術的に対比することによって判断するのとは異なる (D)新規性とは、出願特許の発明が、先行技術の一部分を構成しないことをいう。わが国では、国内公知の公知公用技術および世界公知の文献公知技術のみを採用している

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