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統測◆07設計群◆(一)色彩原理、造形原理、設計概論
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115年 - 115 四技二專統測_設計群_專業科目(一):色彩原理、造形原理、設計概論#139315
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47. 將小昭蒐集的設計師作品迷你模型,按各作品年份先後順序進行排列,下列何者正確?
(A) ①②③④
(B) ③①④②
(C) ①③②④
(D) ④③②①
答案:
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統計:
A(1), B(8), C(7), D(1), E(0) #3876147
詳解 (共 1 筆)
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B1 · 2026/10/18
#7601025
本題考點 本題考的是設計史中經典家具作品...
(共 782 字,隱藏中)
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48. 小昭想依作品模型找出不同時期所代表的設計運動或風格流派,下列何者正確? (A) ①:包浩斯時期(Bauhaus) (B) ②:後現代主義時期(Post-Modernism) (C) ③:新藝術運動時期(Art Nouveau) (D) ④:風格派時期(De Stijl)
#3876148
49. 沁栩運用造形原理和設計概論所學,試著生成出一張具中式古典特色的餐椅,最有可能 是下列哪一把? (A)(B)(C)(D)
#3876149
50. 沁栩想要創造一個配色具繽紛活潑感,且造形富含趣味感的餐廳空間,下列提示詞何者 較容易生成符合前述條件的圖像? (A) 高短調配色的威廉.莫里斯(William Morris)風格 (B) 高長調配色的曼菲斯小組(Memphis Group)風格 (C) 中長調配色的勒.柯比意(Le Corbusier)風格 (D) 中短調配色的安藤忠雄(Tadao Ando)風格
#3876150
1. 有一批次絕熱反應器進行兩次實驗,其反應式為A+2B→AB2,平均反應熱為−0.1kJ∙mol−1。 第一次實驗反應前以 1 mol 反應物 A 與 2 mol 反應物 B 進入該反應器,而且 A 和 B 的溫度 皆固定為 300 K,反應後溫度為 310 K。第二次實驗反應前 A 之進料莫耳數與 A 和 B 溫度 跟第一次實驗相同,但改變反應物B之進料莫耳數,並假設反應後的溫度同樣為310K,下列敘述何者正確?( A 的平均定壓莫耳熱容量為 1 J∙ mol−1 ∙ K−1 ,B 的平均定壓莫耳熱容 量為2 J∙mol−1 ∙K−1 ,AB2 的平均定壓莫耳熱容量為5J∙mol−1 ∙K−1) (A) B之進料莫耳數從2mol減少為1mol,AB2之選擇性上升 (B) B之進料莫耳數從2mol減少為1mol,B之轉化率不變 (C) B之進料莫耳數從2mol減少為1mol,B之轉化率上升 (D) B之進料莫耳數從2mol增加為3mol,B之轉化率上升
#3876151
2. 一熱交換器進行能量交換,假設設備無熱量損失,且流體沒有發生相變化也沒有磨擦損失, 下列敘述何者正確? (A) 比熱較高的流體,必定獲得較多熱量 (B) 質量流率較快的流體,必定獲得較多熱量 (C) 冷流體的溫度變化量一定等於熱流體的溫度變化量 (D) 冷流體得到的熱量等於熱流體失去的熱量
#3876152
3. 下列關於壓縮因子 ( Z ) 的敘述,何者正確? (A) 當壓力趨近於零時,Z 值皆接近於零 (B) 當壓力從趨近於零開始逐漸增加時,所有真實氣體的 Z 值呈直線上升 (C) 壓縮因子被用來修正理想氣體狀態方程式,以描述真實氣體行為,故 Z 值僅受到溫度 與壓力影響 (D) 無論在低壓或高壓時,同體積及同莫耳數的理想氣體之 Z 值皆保持不變
#3876153
4. 下列有關理想氣體之敘述,何者正確? (A) 氣體分子的平均動能與絕對溫度成反比 (B) 氣體分子作同方向的直線運動 (C) 氣體分子碰撞前後總動能不變 (D) 氣體分子間具有作用力
#3876154
5. 依據克勞修斯-克拉伯隆方程式(Clausius-Clapeyron equation ),下列有關單一成分液體的 蒸氣壓與溫度之敘述,何者正確? (A) 蒸氣壓為物質的固有性質,與溫度無關 (B) 蒸氣壓隨絕對溫度上升而呈指數型增加 (C) 蒸氣壓與絕對溫度的倒數呈正比關係 (D) 蒸氣壓與絕對溫度呈正比關係
#3876155
6. 研究生在研究香水配方時發現,香水隨時間會呈現不同層次的香氣變化。當香水噴灑於 皮膚表面時,前調香味短時間內散去,而後調香味則可長時間留存。關於構成前調與 後調之兩種液體性質,下列何者敘述正確? (A) 後調成分之香味可在皮膚上長時間留存,代表其揮發時不需吸收熱量 (B) 後調成分在常溫下的飽和蒸氣壓顯著高於前調成分 (C) 前調成分相較於後調成分,具有較大的汽化熱 (D) 前調成分的沸點通常低於後調成分
#3876156
7. 以 X 光繞射儀分析晶體時,會使用到布拉格 ( Bragg ) 方程式,發生第一級反射時可表示 為:λ=2dsinθ,其中的 λ 是X光的波長,d是同類型晶面的平面間距,則下列何者正確? (A) X光繞射儀最常用來分析材料的官能基種類 (B) θ 等於被晶面反射的光線與入射光的夾角 (C) 相鄰兩晶面的反射光產生破壞性干涉 (D) 方程式右側代表相鄰兩晶面的X射線之光程差
#3876157
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