五、在超大型積體電路製程（VLSI）裡，請說明物理氣相蒸鍍（PVD）及化學氣相蒸鍍（CVD）兩種主要製作薄膜的製程及其優缺點。（20 分）

化學氣相沉積CVD1.沉積膜較厚，和工件...