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115年 - 115 公共工程品管人員(土建班)題庫 1801-1850（2026/08/03 更新）#143108(50題)

115年 - 115 公共工程品管人員(土建班)題庫 1751-1800（2026/08/03 更新）#143107(50題)

115年 - 115 公共工程品管人員(土建班)題庫 1701-1750（2026/08/03 更新）#143106(50題)

115年 - 115 公共工程品管人員(土建班)題庫 1651-1700（2026/08/03 更新）#143105(50題)

115年 - 115 公共工程品管人員(土建班)題庫 1601-1650（2026/08/03 更新）#143104(50題)

115年 - 115 公共工程品管人員(土建班)題庫 1551-1600（2026/08/03 更新）#143103(50題)

115年 - 115 公共工程品管人員(土建班)題庫 1501-1550（2026/08/03 更新）#143102(50題)

115年 - 115 公共工程品管人員(土建班)題庫 1451-1500（2026/08/03 更新）#143101(50題)

115年 - 115 公共工程品管人員(土建班)題庫 1401-1450（2026/08/03 更新）#143100(50題)

115年 - 115 公共工程品管人員(土建班)題庫 1351-1400（2026/08/03 更新）#143099(50題)

7. Which of the following trans complexes would you expect to react most rapidly with CO? (3%)(A) Cr(CO)4(PPh3)2 (B) Cr(CO)4(PPh3)(PBu3) (Bu = n-butyl)(C) Cr(CO)4(PPh3)[P(OMe)3] (D) Cr(CO)4(PPh3)[P(OPh)3

6. Which of the following complexes have18-electron valence configurations? (3%)(A) Ir(CO)Cl(PPh3)2 (B) RhCl(PPh3)3 (C) [Ni(CN)4]2- (D) [V(CO)7]+

5. What is the ground term for the configuration of d8 (Oh symmetry) (3%)(A) 3F4 (B) 5D0 (C) 2T2g (D)2Eg

5. Find the solution of the following equation: (20%)Uxy+2Ux=X , satisfying contion U(0,y)=0, Ux(x,0)=X2

(b) (10%)

(a) (10%)

國中作文-作文基本的文體

講師：侯安澤

簡介：這個課程是在介紹作文的各種基本文體

Nico測試

講師：OAO

簡介：test

國中數學一二冊總複習

講師：阿尼斯特

簡介：本課程為總複習性質之課程，適合學完一個段落之後的自我檢視! 初步規劃先上傳國一課程內容的，不分版本，所...

垂直分化

描述：垂直。水平

組織文化類型

描述：組織文化類型

非正式組織。正反功能

描述：正反功能

15. To tell the truth ________right. (A) were (B) done (C) is (D) are

16. The red car is ________, not yours. (A) bright (B) old (C) big (D) mine

17. John looks taller________ Peter. (A) than (B) under (C) off (D) between

1. 已知甲乙兩農產品為替代品且產季相同，以下哪一種情形會使甲產品的市場交易價格下降? (A)甲產品供給增加 (B)消費者所得增加 (C)乙產品價格增加 (D)乙產品需求增加

複選題29.某直轄市交通警察大隊收受所轄直屬分隊送交之違反道路交通管理事件後，應做哪些處置？ (A)移送違反道路交通管理事件，應設簿登記或輸入電腦資料檔案，以備查考 (B)應審查該事件填記內容是否符合規定、附件是否齊全 (C)發現不符規定或附件欠缺者，協調補正後再行移送處罰機關 (D)發現內容填記錯誤者，應即日通知被通知人更正 (E)發現內容填記錯誤者，距移送處罰機關之期限未達 3 日之情況急迫時，得經處罰機關核准 後逕為更正

(四)根據歷史數據顯示，該極紫外光曝光機在對每片晶圓進行曝光時，特 定關鍵區域「無微粒缺陷」 (即完全達標合格)的機率為 0.3，且每片 晶圓的檢測結果彼此相互獨立。若該區域出現微粒缺陷，則視為一次 「出錯或失敗」 。工程師為了進行設備耐受度測試，設定曝光機必須直 到累積發生第 2 次「無微粒缺陷」 (合格)時才停止測試。令隨機變數 W 表示在此期間該曝光機所累積的「出錯(失敗)次數」 。請寫出 W 的機率密度函數。