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台灣菸酒◆土地相關法規
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115年 - 115 高等考試_三級_人事行政:現行考銓制度#142308(4題)
115年 - 115 高等考試_三級_機械工程:機械製造學#142307(5題)
115年 - 115 高等考試_三級_資訊處理:資通網路與安全#142306(9題)
115年 - 115 高等考試_三級_檔案管理:檔案技術服務#142305(4題)
115年 - 115 高等考試_三級_航空器維修:定翼機及旋翼機基本原理#142304(5題)
115年 - 115 高等考試_三級_檔案管理:檔案應用服務#142303(4題)
115年 - 115 高等考試_三級_氣象:大氣動力學#142302(5題)
115年 - 115 高等考試_三級_測量製圖:空間資訊理論及實務(包括航空測量與遙感探測、地圖學及地理資訊系統)#142301(4題)
115年 - 115 高等考試_三級_法制:刑法與刑事訴訟法#142300(4題)
115年 - 115 高等考試_三級_都市計畫技術:環境規劃與都市設計#142299(4題)
最新試題
7. Which of the following trans complexes would you expect to react most rapidly with CO? (3%)(A) Cr(CO)4(PPh3)2 (B) Cr(CO)4(PPh3)(PBu3) (Bu = n-butyl)(C) Cr(CO)4(PPh3)[P(OMe)3] (D) Cr(CO)4(PPh3)[P(OPh)3
6. Which of the following complexes have18-electron valence configurations? (3%)(A) Ir(CO)Cl(PPh3)2 (B) RhCl(PPh3)3 (C) [Ni(CN)4]2- (D) [V(CO)7]+
5. What is the ground term for the configuration of d8 (Oh symmetry) (3%)(A) 3F4 (B) 5D0 (C) 2T2g (D)2Eg
最新申論題
5. Find the solution of the following equation: (20%)Uxy+2Ux=X , satisfying contion U(0,y)=0, Ux(x,0)=X2
(b) (10%)
(a) (10%)
最新課程
人工智慧於醫療領域之應用
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簡介:
本課程為錄製影片,簡介基礎人工智慧 (AI) 概念,可作為資訊管理類考試之暖身,或是單純用於進修。
單字量的邏輯捷徑——超簡單字根字首背完 3000 單
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【課程簡介】 還在用 A 到 Z 的死記硬背法與單字苦苦掙扎嗎?面對全民英檢中級的長篇閱讀與聽力,「單字量...
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本課程結合考試重點、個人準備經驗、共筆筆記與網路學習資料,將原本繁雜難懂的理論內容,整理成簡明清楚的...
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易混淆高頻單字分組總整理-各類英文考試必備!
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各類英文考試必備!課程特色如下:1.從阿摩考試系統出題-只挑會考的2.一魚多吃字根字尾字首+諧音記憶法3.每...
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圓周運動與簡諧運動
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最新討論
15. To tell the truth ________right. (A) were (B) done (C) is (D) are
16. The red car is ________, not yours. (A) bright (B) old (C) big (D) mine
17. John looks taller________ Peter. (A) than (B) under (C) off (D) between
複選題28.有關慢車行駛之規定何者正確? (A)馬車應向直轄市、縣(市)政府辦理登記,領取證照後方可行駛道路 (B)手拉貨車應向直轄市、縣(市)政府辦理登記,領取證照後方可行駛道路 (C)腳踏自行車應經型式審驗合格,始得行駛道路 (D)電動輔助自行車應經檢測及型式審驗合格,並登記、領用、懸掛牌照後,始得行駛道路 (E)微型電動二輪車應經檢測及型式審驗合格,並登記、領用、懸掛牌照後,始得行駛道路
複選題29.某直轄市交通警察大隊收受所轄直屬分隊送交之違反道路交通管理事件後,應做哪些處置? (A)移送違反道路交通管理事件,應設簿登記或輸入電腦資料檔案,以備查考 (B)應審查該事件填記內容是否符合規定、附件是否齊全 (C)發現不符規定或附件欠缺者,協調補正後再行移送處罰機關 (D)發現內容填記錯誤者,應即日通知被通知人更正 (E)發現內容填記錯誤者,距移送處罰機關之期限未達 3 日之情況急迫時,得經處罰機關核准 後逕為更正
(四)根據歷史數據顯示,該極紫外光曝光機在對每片晶圓進行曝光時,特 定關鍵區域「無微粒缺陷」 (即完全達標合格)的機率為 0.3,且每片 晶圓的檢測結果彼此相互獨立。若該區域出現微粒缺陷,則視為一次 「出錯或失敗」 。工程師為了進行設備耐受度測試,設定曝光機必須直 到累積發生第 2 次「無微粒缺陷」 (合格)時才停止測試。令隨機變數 W 表示在此期間該曝光機所累積的「出錯(失敗)次數」 。請寫出 W 的機率密度函數。