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研究所、轉學考(插大)◆結構學
研究所、轉學考(插大)◆中國思想史
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最新試卷
115年 - 115 中華郵政股份有限公司_職階人員甄試_專業職(二)內勤/櫃台業務、郵務處理:企業管理大意及洗錢防制法大意#142582(50題)
115年 - 115 中華郵政股份有限公司_職階人員甄試試題:郵政三法大意(含郵政法、郵政儲金匯兌法、簡易人壽保險法)及金融科技知識#142581(60題)
115年 - 115-1 臺南市立沙崙國際高級中學高中部_教師甄選口試:輔導科#142580(6題)
115年 - 115-2 專技高考_醫事放射師:核子醫學診療原理與技術學#142578(80題)
115年 - 115-2專技高考_醫事放射師:放射線治療原理與技術學#142567(80題)
115年 - 115-2專技高考_醫事放射師:放射線診斷原理與技術學#142565(80題)
115年 - 115-2專技高考_醫事放射師:放射線器材學(包括磁振學與超音波學)#142564(80題)
115年 - 115-2專技高考_醫事放射師:醫學物理學與輻射安全#142562(80題)
115年 - 115-2 專技高考_醫事放射師:基礎醫學(包括解剖學、生理學與病理學)#142560(80題)
【已刪除】115年 - 115 中華郵政股份有限公司 _職階人員甄試試題_專業職(二)外勤/郵遞業務、運輸業務:臺灣自然及人文地理#142556(60題)
最新試題
(五)《國語》——( )
(四)《周禮》——( )
(三)「三通」——( )
最新申論題
3. 推斷本曲之創作年代?簡述其緣由。
2. 本曲在創作手法上有何特色?
1. 簡述本曲音高架構。
最新課程
專技 藥物分析與生藥學(包括中藥學):44章依考點系統整理,單元重點搭配對應試題
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MoAI - 您的AI助手
簡介:
本課程適合準備專技考試「藥物分析與生藥學(包括中藥學)」科目的考生。無論是初次建立整體架構,或是考前...
高普考/三四等/高員級◆行政學|38章依考點系統整理,單元重點搭配對應試題
講師:
MoAI - 您的AI助手
簡介:
本課程適合準備高普考、三四等特考及高員級考試行政學科目的考生。初次接觸行政學、需要建立完整架構的考生...
高普考/三四等/高員級國文|依考點系統整理,單元重點搭配對應試題
講師:
MoAI - 您的AI助手
簡介:
本課程適合準備高普考、三四等特考及高員級考試國文科的考生。初學者可以依章節建立完整的國文架構,已有基...
最新主題筆記
國家非常事故與法規暫停適用
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初等/五等/佐級◆法學大意|70章依考點系統整理,單元重點搭配對應試題
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第 4 章 中央法規的制定、修正與廢止
描述:
學習重點 分清四種處理:內容需要調整用修正;已無保留必要用廢止;國家遭遇非常事故、一時不能適用用暫停...
法規位階與法律效力基礎
課程:
初等/五等/佐級◆法學大意|70章依考點系統整理,單元重點搭配對應試題
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第 5 章 法規位階、效力範圍與新舊法
描述:
學習重點 分辨成文法與不成文法,掌握兩者的形成方式、優缺點及常見例子。 認識法源與國家的關係:法的歷...
中央法規位階
課程:
初等/五等/佐級◆法學大意|70章依考點系統整理,單元重點搭配對應試題
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第 5 章 法規位階、效力範圍與新舊法
描述:
學習重點 掌握中央法規的基本位階:憲法高於法律,法律高於命令。下位規範不得牴觸上位規範,牴觸者「無效...
最新討論
36.根據跨理論模式(Transtheoretical Model),在準備期(preparation stage)時,個案可能需要什麼協助? (A)提供資訊及鼓勵 (B)制定具體可執行的計畫 (C)問題分析與改變與否 (D)行動的支持或激勵方案
24 依我國著作權法規定,下列敘述何者正確? (A)甲撰寫一篇時事評論文章投稿於報紙的讀者投書專欄,在甲與報社間無特約之情況下,推定已授與該報紙得多次刊載之權利 (B)著作財產權的存續期間,一律為該著作公開發表後五十年 (C)甲在自家之小型家庭聚會時以吉他演奏音樂著作,不屬於著作權法上所稱的公開演出 (D)以拍攝影片之方式就原著作另為創作,所拍攝之影片為編輯著作,以獨立之著作保護之
3. 在教育哲學的討論會中,以下有關存在主義的教育論述哪一項是錯的? (A)教育主要在維護社會的和諧發展 (B)教育應重視學生的抉擇 (C)教育中的師生關係是 I-Thou,而不是 I-It (D)應予人文學科較多的關注
5. 下列何種被印材,印前較須電暈處理以增強接著力? (A)PVC (B)PP、PE(C)PET (D)PC 。
6. 下列何種轉印被印材,須經印前處理? (A)排汗衫熱轉印 (B)陶瓷轉印釉燒(C)馬克杯昇華轉印 (D)棉 T 熱熔轉印 。
7. 下列敘述何者錯誤? (A)版膜易吸溶劑而膨脹,表示較不耐溶劑 (B)版膜厚薄與耐印墨、耐溶劑性成正比 (C)經化學劑處理之版膜,較耐印墨與溶劑(D)製版後再次曝光可增強版膜堅牢度 。