題組內容
四、現代半導體的先進 CMOS 製程技術中會有許多道離子佈植步驟,請回答 以下與離子佈植製程相關之兩子題:
(一)說明通道效應(channeling effect)的成因以及通道效應對離子佈植製 程的影響,並指出一種製程上可改善的方法。(10 分)
四、現代半導體的先進 CMOS 製程技術中會有許多道離子佈植步驟,請回答 以下與離子佈植製程相關之兩子題:
(一)說明通道效應(channeling effect)的成因以及通道效應對離子佈植製 程的影響,並指出一種製程上可改善的方法。(10 分)