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陸軍聘僱◆E1C514專長

研究所、轉學考(插大)◆圖書資訊學概論

研究所、轉學考(插大)◆教育時是觀察與評析

115年 - 115 警察特種考試_四等_消防警察人員：消防安全設備概要#140778(4題)

115年 - 115 警察特種考試_四等_消防警察人員：消防與災害防救法規概要（包括消防法及施行細則、災害防救法及施行細則、爆竹煙火管理條例及施行細則、公共危險物品及可燃性高壓氣體製造儲存處理場所設置標準暨安全管理辦法、緊急救護辦法、緊急醫療救護法及施行細則）#140777(28題)

115年 - 臺北市 115 學年度市立國民中學正式教師聯合甄選 國文#140776(40題)

115年 - 115 警察特種考試_四等_行政警察人員、交通警察人員：犯罪偵查概要#140775(50題)

115年 - 115 警察特種考試_四等_行政警察人員、交通警察人員：警察情境實務概要（包括警察法規、實務操作標準作業程序、人權保障與正當法律程序）#140774(23題)

115年 - 115 警察特種考試_四等_行政警察人員、交通警察人員：警察法規概要（包括警察法、行政執行法、社會秩序維護法、警械使用條例、集會遊行法、警察職權行使法、公務人員行政中立法）#140773(27題)

115年 - 115 桃園市國民中學新進教師甄選試題：體育科#140772(50題)

115年 - 高雄市115 年度市立國民小學教師聯合甄選專長類－資訊試卷#140771(50題)

115年 - 115 桃園市國民中學新進教師甄選試題：閩南語科#140770(50題)

115年 - 115 警察特種考試_三等_行政管理人員：警察危機應變與安全管理#140769(7題)

50. 下方所列之化學反應是由何種酵素催化？ 琥珀酸 + ATP + CoA ≙ 琥珀酸醯 CoA (A) 結合/連接酶 (B) 異構酶 (C) 轉移酶 (D) 製解/解離酶

49. 下列有關細菌生長時期之順序描述，何者正確？ (A) 遲滯期 → 對數期 → 靜止期 → 死亡期 (B) 靜止期 → 遲滯期 → 對數期 → 死亡期 (C) 遲滯期 → 靜止期 → 對數期 → 死亡期 (D) 對數期 → 遲滯期 → 靜止期 → 死亡期

48. 台灣於 2010 年發生真空包裝豆乾之中毒事件，與下列何種微生物有關？ (A) 肉毒桿菌 (B) 大腸桿菌 (C) 唐菖蒲伯克氏菌 (D) 金黃色葡萄球菌

5. 試述依據「海洋污染防治法」第33條第一項：當船舶發生海難或因其他意外事件，致污染海域或有污染之虞時，船長及船舶所有人應立即採取之措施為何？

4. 船舶火災撲滅作業，一般分為幾個階段，試述之。

3. 試述撲滅B類火災的三基本原則為何？

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講師：【站僕】摩檸Morning.

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安神藥+表格筆記整理

課程：【A'phar 中藥學】 單元式歷屆考題彙整
章節：安神藥

收澀藥+表格筆記整理

課程：【A'phar 中藥學】 單元式歷屆考題彙整
章節：收澀藥

辛溫解表藥+表格筆記整理

課程：【A'phar 中藥學】 單元式歷屆考題彙整
章節：解表藥

47.下列那些患者不適宜使用aspirin作手術後止痛？①氣喘病患 ②腎功能不良病患 ③授乳中之婦女 (A)僅①② (B)僅②③ (C)僅①③ (D)①②③

72.造成下顎左側向滑動的中心關係干擾（CR interferences）產生的位置，下列敘述何者完全正確？①左側上顎 頰側咬頭舌側斜面接觸左側下顎頰側咬頭頰側斜面 ②左側上顎舌側咬頭舌側斜面接觸左側下顎舌側咬頭頰 側斜面 ③右側上顎舌側咬頭舌側斜面接觸右側下顎舌側咬頭頰側斜面 ④右側上顎頰側咬頭舌側斜面接觸 右側下顎頰側咬頭頰側斜面 (A)①② (B)③④ (C)①③ (D)②④

71.有關中藥葛根之敘述，下列何者錯誤？(A)基原植物之科別為 Fabaceae (B)多為栽培，臺灣產品質優良，產量多 (C)主成分為 lignans 類，具有改善心血管與腦血管循環作用 (D)為辛涼解表藥

11. 塑膠製洗鼻器及洗鼻鹽包組成之洗鼻器組，應歸列那一稅則號別？ (A)第 3824.99.99 號「其他化學或相關工業之未列名化學品及化學製品(包括天然產品混合物)」 (B)第 3924.90.00 號「其他塑膠製家庭用製品及衛生保健或盥洗用具」 (C)第 3926.90.90 號「他塑膠製品及第 3901 至 3914 節之材料製成品」 (D)第 9018.90.80 號「其他第 9018 節所屬之貨品」(內科用之用具)

12. 以塑膠基材且均勻塗佈磨料及矽膠彈性體之探針卡用清潔片，供晶圓測試臺上清除、磨光探 針並黏附碎屑，應歸列稅則那一節？ (A)第 3919 節「塑膠製自粘性板、片、薄膜、箔、帶、條及其他平面形狀，不論是否成捲者」 (B)第 4016 節「其他硫化橡膠製品，硬質橡膠者除外」 (C)第 6805 節「以紡織材料、紙、紙板或其他材料為基材之天然或人造研磨料，不論是否剪裁 或縫合或另經製作者均在內」 (D)第 8486 節「專供或主要供製造半導體晶柱或晶圓、半導體裝置、積體電路及平面顯示器之 機器及器具；本章註十一(丙)所規範之機器及器具；零件及附件」

(一)請詳述使用靜電足跡採取器（Electrostatic Dust Lifter, EDL）採取此類 潛伏灰塵足跡（Dust Prints）的高壓靜電物理學原理？在操作時，高壓 加載、電壓極性（正負電）與金屬電極/導電膠片的空間排列，如何促 使微量灰塵顆粒發生物理轉印？（13 分）