題組內容
一、
⑴在先進半導體製程的發展過程中,把銅連線製程應用到超大型積體電路(VLSI) 製程裡,主要突破的困難點有那些?(9 分)
詳解 (共 1 筆)
Dennis Tsai
詳解 #3150887
銅難以蝕刻
(共 7 字,隱藏中)
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