阿摩線上測驗
登入
首頁
> 最新資料
最新資料
瀏覽最新的試卷、試題和詳解,掌握最新考試資訊
最新科目
研究所◆管理概論
研究所◆應用微生物學
研究所◆建築與景觀概論
最新試卷
115年 - 115 澎湖縣國民小學暨附設幼兒園教師/代理教師甄選試題:教育專業 1-20#142492(20題)
115年 - 115 澎湖縣國民小學暨附設幼兒園教師/代理教師甄選試題_基礎:數學 76-100#142491(25題)
115年 - 115 澎湖縣國民小學暨附設幼兒園教師/代理教師甄選試題_基礎:國文 51-75#142490(25題)
115年 - 115 澎湖縣國民小學暨附設幼兒園教師/代理教師甄選試題:教育專業 1-50#142489(50題)
115年 - 115 高等考試_三級_化學工程:反應工程及單元操作#142369(14題)
115年 - 115 大學入學考試中心_分科測驗:數學乙#142359(18題)
115年 - 115-1 淨零碳規劃管理師-初級能力鑑定公告試題_第二科:淨零碳盤查規範與程序概要#142358(50題)
115年 - 115-1 淨零碳規劃管理師-初級能力鑑定試題_第一科:淨零碳規劃管理基礎概論#142357(50題)
115年 - 115 普通考試_電子工程、電信工程:計算機概要#142356(40題)
115年 - 115 大學入學考試中心_分科測驗:數學甲#142355(17題)
最新試題
(五)《國語》——( )
(四)《周禮》——( )
(三)「三通」——( )
最新申論題
3. 推斷本曲之創作年代?簡述其緣由。
2. 本曲在創作手法上有何特色?
1. 簡述本曲音高架構。
最新課程
玩轉英檢中高級 CEFR B2
講師:
Jeff Chen
簡介:
課程名稱:玩轉英檢中高級(Volume-Based Series) —— 不只是刷題,更是掌握「高階英語邏輯」的通關密技!...
國中一年級數學
講師:
Joyce
簡介:
第一章 整數運算與科學記號 第二章 因數分解與分數運算 第三章 一元一次方程式 第四章 簡單圖形與幾...
【矮袋鼠共筆】物理治療技術學|熱療學 筆記/題庫
講師:
矮袋鼠(114-2已上榜!)
簡介:
考科包括電療學、熱療學、操作治療學與輔具學 『本課程考試筆記僅包含熱療學』,限時詳解卡解鎖筆記! 考題...
最新主題筆記
植物適應、珊瑚共生與動物保育
課程:
初等/五等/佐級◆國文:依考點系統整理,單元重點搭配對應試題練習
章節:
第 22 章 媒體、科技與自然科普閱讀
描述:
理解生物的適應、防禦、共生與人為干擾。
地球環境、氣候與災害
課程:
初等/五等/佐級◆國文:依考點系統整理,單元重點搭配對應試題練習
章節:
第 22 章 媒體、科技與自然科普閱讀
描述:
理解溯源侵蝕、水庫誘發地震、天氣氣候差異與災害類型。
永續發展、氣候調適與資源共享
課程:
初等/五等/佐級◆國文:依考點系統整理,單元重點搭配對應試題練習
章節:
第 22 章 媒體、科技與自然科普閱讀
描述:
比較古典節用、孟子保育、氣候調適與跨國水資源合作。
最新討論
36.根據跨理論模式(Transtheoretical Model),在準備期(preparation stage)時,個案可能需要什麼協助? (A)提供資訊及鼓勵 (B)制定具體可執行的計畫 (C)問題分析與改變與否 (D)行動的支持或激勵方案
24 依我國著作權法規定,下列敘述何者正確? (A)甲撰寫一篇時事評論文章投稿於報紙的讀者投書專欄,在甲與報社間無特約之情況下,推定已授與該報紙得多次刊載之權利 (B)著作財產權的存續期間,一律為該著作公開發表後五十年 (C)甲在自家之小型家庭聚會時以吉他演奏音樂著作,不屬於著作權法上所稱的公開演出 (D)以拍攝影片之方式就原著作另為創作,所拍攝之影片為編輯著作,以獨立之著作保護之
8 依土地徵收條例規定,有關徵收之程序,下列何者正確?(A)特定農業區經行政院核定為重大建設須辦理徵收者,應依行政程序法舉行聽證(B)需用土地人於事業計畫報請目的事業主管機關許可後,應舉行公聽會(C)協議價購時,依其他法律規定有優先購買權者,無優先購買權之適用(D)需用土地人於所有權人拒絕參與協議或經開會未能達成協議時,則改申請徵收
3. 在教育哲學的討論會中,以下有關存在主義的教育論述哪一項是錯的? (A)教育主要在維護社會的和諧發展 (B)教育應重視學生的抉擇 (C)教育中的師生關係是 I-Thou,而不是 I-It (D)應予人文學科較多的關注
6. 下列何種轉印被印材,須經印前處理? (A)排汗衫熱轉印 (B)陶瓷轉印釉燒(C)馬克杯昇華轉印 (D)棉 T 熱熔轉印 。
7. 下列敘述何者錯誤? (A)版膜易吸溶劑而膨脹,表示較不耐溶劑 (B)版膜厚薄與耐印墨、耐溶劑性成正比 (C)經化學劑處理之版膜,較耐印墨與溶劑(D)製版後再次曝光可增強版膜堅牢度 。