(三)續題(一)，若研究員因研究之需求，將變數進行線性轉換，定義新變數 Di= -2 X i 及 Ei = 3Yi +5，i = 1,2,...,18。請以 Di 為自變數， Ei 為應變數，用最小平方法建立新的簡單直線迴歸模型。

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詳解 #7588848

2026/10/15

題旨分析本題承接題(一)的簡單直線迴歸...

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(四)根據歷史數據顯示，該極紫外光曝光機在對每片晶圓進行曝光時，特定關鍵區域「無微粒缺陷」 (即完全達標合格)的機率為 0.3，且每片晶圓的檢測結果彼此相互獨立。若該區域出現微粒缺陷，則視為一次「出錯或失敗」。工程師為了進行設備耐受度測試，設定曝光機必須直到累積發生第 2 次「無微粒缺陷」 (合格)時才停止測試。令隨機變數 W 表示在此期間該曝光機所累積的「出錯(失敗)次數」。請寫出 W 的機率密度函數。

(三)續題(一)，若研究員因研究之需求，將變數進行線性轉換，定義新變數 D_i= -2 X _i 及 E_i= 3Y_i +5，i = 1,2,...,18。請以 D_i 為自變數， E_i為應變數，用最小平方法建立新的簡單直線迴歸模型。

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(三)續題(一)，若研究員因研究之需求，將變數進行線性轉換，定義新變數 Di= -2 X i 及 Ei = 3Yi +5，i = 1,2,...,18。請以 Di 為自變數， Ei 為應變數， 用最小平方法建立新的簡單直線迴歸模型。

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相關申論題

相關試卷

(三)續題(一)，若研究員因研究之需求，將變數進行線性轉換，定義新變數 D_i= -2 X _i 及 E_i= 3Y_i +5，i = 1,2,...,18。請以 D_i 為自變數， E_i為應變數，用最小平方法建立新的簡單直線迴歸模型。